Vörur

Við rannsökuðum köfnunarefnisdópuð nanókolefnisfilmu rafskaut með niturstyrk lægri en 10,9 at% sem myndast með ójafnvægi segulrónu (UBM) sputtering aðferðinni.Sp(3) innihaldið í köfnunarefnisdópuðu UBM sputtering nanocarbon filmunni (N-UBM filmu) eykst lítillega með auknum niturstyrk.Grafítlík tenging sem inniheldur nitur minnkar og pýridín lík tenging eykst með auknum niturstyrk.N-UBM filman hefur mjög slétt yfirborð með meðalgrófleika 0,1 til 0,3 nm, sem er nánast óháð styrk köfnunarefnis.N-UBM filmu rafskautið sýnir breiðari möguleika glugga (4,1 V) en hrein-UBM filmu rafskaut (3,9 V) vegna lítilsháttar aukningar þess á sp(3) innihaldi.Rafhvatavirknin jókst með auknum niturstyrk, sem bendir til þess að rafvirknin sé hámark þegar styrkur köfnunarefnis er um 10,9 at%, sem er staðfest með hámarksskilnaði Fe(CN)6(4-).Vetnisperoxíð (H2O2) minnkunarmöguleikar við N-UBM filmu rafskautið færðust um 0,1 V og hámarksstraumur H2O2 jókst um það bil 4 sinnum.